光学膜厚仪

适用于具有透光性的氧化物、氮化物、光刻胶、聚合物、半导体薄膜、硬质涂层、聚合物薄膜和涂层等材质
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光学膜厚仪

该仪器通过光谱反射原理来测量涂层厚度,可以测量涂层或薄膜的膜厚,基本所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量,适用于具有透光性的氧化物、氮化物、光刻胶、聚合物、半导体薄膜、硬质涂层、聚合物薄膜和涂层等材质。可靠性高、可追溯性高、重复性好,易于使用。

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测量原理

从薄膜界面及基体界面反射的光束之间的光学相位差,光束之间的干涉将相位差转换为光学强度谱,光谱包含着膜厚信息。

Wear mark progression with in-line 3d-profiler on rtec-instruments tester

典型应用

太阳能电池:TCO、CIG、CdS、CdTe;

液晶显示:LCD, FPD,ITO和其他ICO等;

光学镀膜: 减反涂层、硬涂层等;

半导体薄膜:氧化物、氮化物、有机发光二极管等。

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