UP-5000 三维光学形貌仪

大范围成像
易于操作

6合1成像分析:白光干涉+共聚焦+光谱膜厚+亮、暗场+变焦+AFM

广泛的用途和高精度

UP-5000具有高速扫描、多种成像技术和高分辨率,为大范围样品表面成像提供解决方案。

高速相机

200 FPS的高速相机

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超高的分辨率

Z向亚纳米级分辨率与物镜倍率或扫描距离无关

模块化平台

可以定制300x300 mm的精密XY载物台,以适应不同规格的样品。(晶圆、器件、薄膜、组件等)。

分析软件

准确且易于使用,符合ISO标准,自动分析、生成报告。

设备特点

同一平台上多个光学器件的6合1组合允许以纳米分辨率测量多种类型的样品。

转盘共聚焦

快速面扫描

高XY分辨率的三维光学形貌仪。转盘共聚焦扫描技术比单点共聚焦扫描更快、更好,后者需要移动XY平台或反射镜来生成三维图像。我们的共聚焦显微镜利用密集的针孔,以物理方式防止散射光进入光路。这去除了噪音并提高了图像的分辨率,为透明层、大坡度、低反射率的样品生成准确的数据。

白光干涉

白光干涉是三维光学形貌测量中Z向分辨率zui高的技术。针对平滑样品可使用相移扫描方式,针对粗糙样品可使用白光干涉模式。高速相机提供200PSI扫描帧速,在1秒内生成三维形貌。

暗场模式

暗场成像模式用于检测裂缝和缺陷,获取高对比度和高分辨率图像。

快速膜厚测量

薄膜厚度测量模块通过光谱反射来获得表面涂层的厚度,操作方便,提供广泛的材料库(500+)和多样品测量利于膜厚分析。

原子力显微镜(AFM)

AFM提供原子级分辨率,具有多种测试模式,可以轻松测量粗糙度、缺陷、微纳尺寸。

变焦成像,亮场成像

通过在不同焦平面上采集的一系列表面图像,创建完整的样品三维形貌信息。


提供符合ISO标准的分析功能

解决方案

通用三维光学形貌仪广泛应用于各行业

  • 航空航天
  • 汽车
  • 生物材料
  • 涂层
  • 金属
  • 光学和玻璃
  • 聚合物
  • 半导体
  • 制药
  • 显示器

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